Ihr professioneller 126-nm-UV-Lieferant
Shenzhen Lights Technology Co. wurde im März 2012 gegründet. Das Forschungs- und Entwicklungspersonal des Unternehmens ist seit mehr als 15 Jahren in der RGB-Anzeige- und UV-Industrie tätig. Das Unternehmen betreibt eine 9.000 -Quadratmeter- Meter große Fabrik mit modernen Produktionslinien, Kernprüfgeräten und einem gut strukturierten Forschungs- und Entwicklungszentrum. Wir beschäftigen mehr als 120 Fachkräfte und Ingenieure, darunter erfahrene Experten aus China und dem Ausland. Mit einer Anfangsinvestition von 10 Millionen RMB verfügen wir über starke technische Kapazitäten und eine stabile Produktion, um eine zuverlässige Lieferung und gleichbleibende Produktqualität zu gewährleisten.
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Exciplex-LaserExciplex Laser: Professionelle UV-Laserlösungen ermöglichen die Verbesserung der Präzisionsfertigung. Als auf die Herstellung verschiedener UV-Lampen spezialisiertes Unternehmen sind wir seit mehr
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Excimer-LichterExcimerlicht ist eine UV-Lichtquelle, die auf der Excimer-Entladungstechnologie basiert und durch die gemischte Anregung von Inertgasen und Halogenen energiereiche, schmalbandige UV-Strahlung
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Excimer-LampeAls auf die Herstellung von UV-Lampen spezialisiertes Unternehmen engagieren wir uns seit vielen Jahren intensiv im Bereich der UV-Technologie und widmen uns der Bereitstellung effizienter und
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Excimer-LichttherapieDie Excimer-Lichttherapie ist eine fortschrittliche gezielte Phototherapie-Technologie, die monochromatisches ultraviolettes B-Licht (NB-UVB) von 308 nm verwendet, um die betroffene Haut präzise zu
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Excimer-LichtbehandlungIn der heutigen Fertigungsindustrie ist die Behandlung mit Excimerlicht zu einer unverzichtbaren Kerntechnologie geworden, die sich besonders für Halbleiter, Elektronik, Automobile und medizinische
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Excimer-Laser zu verkaufenDiese zum Verkauf stehenden Excimer-Laser-Serienprodukte sind für industrielle Käufer konzipiert und kombinieren fortschrittliche technische Parameter und zuverlässige Leistung, um sicherzustellen,
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Excimer-Lampe 163 nmIn Bereichen wie der Halbleiterfertigung, Oberflächenbehandlung, Fotolithographie und Materialmodifikation ist die 163-nm-Excimerlampe zu einer unverzichtbaren Vakuum-Ultraviolett-Lichtquelle (VUV)
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Kryptonchlorid-Excimer-LampeUnsere Kryptonchlorid-Excimer-Lampe basiert auf der Krypton- und Chlor-Excimer-Anregungstechnologie und wurde speziell für Käufer entwickelt, die hochintensive 222-nm-Fern-UVC-Strahlung benötigen.
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Excimer-LasermaschineAls High-End-Vertreter unserer UV-Lampen-Produktlinie zeichnet sich die Excimer-Lasermaschine in der Halbleiterfertigung, der Verarbeitung medizinischer Geräte, der Präzisionsbeschichtung und anderen
Warum sollten Sie sich für uns entscheiden?
Erweiterte Produktionskapazität
Vier automatisierte Produktionslinien und 36 Hochgeschwindigkeits-Bestückungsmaschinen unterstützen eine effiziente, skalierbare und hochpräzise Fertigung.
Qualitätssicherung
Jeder Charge liegt ein detaillierter Inspektionsbericht bei, der Transparenz und Vertrauen für globale Käufer gewährleistet.
Absatzmärkte
Die Produkte werden in über 80 Ländern in Europa, Amerika, dem Nahen Osten, Afrika und Südostasien verkauft, unterstützt durch ein umfassendes Vertriebs- und Servicenetzwerk.
Maßgeschneiderte Lösungsfähigkeit
Wir analysieren das Anwendungsszenario und das Geschäftsziel jedes Kunden, um maßgeschneiderte Lösungen zu entwickeln, die maximalen Wert und Effizienz bieten.

Excimer-Laser sind eine Familie gepulster Laser, die im ultravioletten Bereich des Spektrums arbeiten. Die Emissionsquelle ist eine schnelle elektrische Entladung in einem Hochdruckgemisch aus einem Edelgas (Krypton, Argon oder Xenon) und einem Halogengas (Fluor oder Chlorwasserstoff). Die jeweilige Kombination aus Edelgas und Halogen bestimmt die Ausgangswellenlänge, und bei den meisten kommerziellen Excimer-Lasern kann die Wellenlänge durch Nachfüllen des Lasers mit der entsprechenden Gaskombination geändert werden.
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Parameterkategorie |
Modell 1: ArF-193 (speziell für Präzisionslithographie) |
Modell 2: KrF-248 (Allgemeine Verarbeitung) |
Modell 3: XeCl-308 (Oberflächenmodifikation) |
Beschreibung des Beschaffungsschwerpunkts |
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Wellenlänge (nm) |
193 |
248 |
308 |
193 nm ist für Halbleiter im Sub--Mikrometerbereich geeignet; 248 nm bringt Präzision und Kosten in Einklang; 308 nm ist für organische Materialien geeignet. |
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Pulsenergie (mJ) |
10-50 |
50-200 |
100-500 |
Hohe Energie sorgt für eine effiziente Ablation und reduziert die Bearbeitungszeit um 20 %. |
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Wiederholungsrate (Hz) |
100-1000 |
200-2000 |
50-600 |
2000 Hz unterstützt die Hochgeschwindigkeitsproduktion und reduziert die Leerlaufkosten der Geräte. |
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Durchschnittliche Leistung (W) |
5-50 |
10-400 |
5-300 |
Die Leistung der 400-W-Klasse eignet sich für den 24/7-Betrieb mit schnellerem ROI. |
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Impulsbreite (ns) |
10-20 |
15-25 |
20-30 |
Ein kurzer Impuls minimiert den Wärmeeffekt und verbessert die Materialintegrität. |
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Strahlgröße (mm) |
12x26 (einstellbar) |
12x28 |
15x30 |
Eine gleichmäßige Strahlverteilung gewährleistet eine gleichmäßige Verarbeitung und keine dunklen Streifen. |
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Energiestabilität (%) |
±0.5 |
±1.0 |
±1.5 |
Geringe Flüchtigkeit reduziert die Ausschussrate und spart 5–10 % Materialkosten. |
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Gaslebensdauer (Impuls) |
>10^8 (exciPure-Technologie) |
>5x10^7 |
>10^8 |
Verlängert sich um das Zehnfache der jährlichen Gaskosten<$5000. |
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Kühlmethode |
Wasser-gekühlt/luftgekühlt-optional |
Wasserkühlung |
Wasserkühlung |
Effiziente Wärmeableitung, unterstützt Dauerbetrieb, Wartungszyklus 6 Monate. |
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Abmessungen/Gewicht (kg) |
650x300x500 / 150 |
800x400x600 / 200 |
700x350x550 / 180 |
Kompaktes Design, einfache Integration in bestehende Produktionslinien. |
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Preisspanne (USD) |
50,000-150,000 |
80,000-250,000 |
60,000-200,000 |
Die Einstiegsstufe-beginnt bei 50.000 $, hohes Preis-Leistungs-Verhältnis. |
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Garantie/Service |
Verlängerung um 1 Jahr + 5 Jahr, Ferndiagnose |
Das Gleiche wie links |
Das Gleiche wie links |
Globales Servicenetzwerk, Reaktionszeit<24 hours. |
Merkmale des zu verkaufenden Excimer-Lasers
Wellenlängenbereich:Excimer-Laser geben Wellenlängen im Bereich von 157–353 nm aus und fallen in den ultravioletten Bereich. Typische Wellenlängen sind 193 nm (ArF), 248 nm (KrF) und 308 nm (XeCl).
Pulsenergie und -leistung:Excimer-Laser zeichnen sich durch eine hohe Pulsenergie (10-900 mJ) und eine hohe Durchschnittsleistung (bis zu mehreren hundert Watt oder sogar mehr) aus. Einige Geräte haben beispielsweise eine maximale Einzelimpulsenergie von 1200 mJ und eine maximale Durchschnittsleistung von 60 W.
Strahlqualität:Die Strahlqualität von Excimer-Lasern ist relativ schlecht, mit einem M²-Faktor von mehr als 10, deutlich niedriger als bei Faserlasern (M²≈1,05). Seine Stabilität kann jedoch durch den Einsatz von Techniken wie Gaszirkulationsmodulen mit konstanter -Temperatur verbessert werden.
Verarbeitungsauflösung:Aufgrund der kurzen Wellenlänge und der hohen Photonenenergie von Excimerlasern bieten sie eine hohe Bearbeitungsauflösung und ermöglichen eine Bearbeitungspräzision im Mikrometer-- und sogar Nanometer--Bereich.
Typ Excimer-Laser zum Verkauf
Elektronengepumpte Excimerlaser
Diese Laser verfügen über extrem hohe Pulsenergien (bis in den kJ-Bereich) und eignen sich daher für die Forschung unter extremen Bedingungen wie der Inertial Confinement Fusion (ICF).
Entladungsgepumpte Excimerlaser
Diese Laser nutzen gepulste Hochspannungsentladungen (wie Blumlein-Schaltungen), um Excimergase anzuregen, und sind derzeit die gängige Technologie in industriellen und medizinischen Bereichen.
Optisch gepumpte Excimer-Laser
Diese Laser verwenden einen anderen Laser (z. B. einen Nd:YAG-Laser), um das Excimergas zu pumpen und so eine Besetzungsinversion zu erreichen.

Anwendungen von Excimer-Lasern zum Verkauf
Halbleiterlithographie:Excimerlaser sind entscheidende Lichtquellen in der Halbleiterlithographie, insbesondere die 248-nm-KrF- und 193-nm-ArF-Excimerlaser, die in der Halbleiter-Massenproduktion an verschiedenen Prozessknoten weit verbreitet sind.
Herstellung von Flachbildschirmen:Bei der Herstellung hochwertiger Flachbildschirme wird beim Excimer-Laser-Annealing (ELA) ein 308-nm-XeCl-Laser verwendet, um das Substrat von einem amorphen Silizium-Dünnfilm in einen hochqualitativen polykristallinen Silizium-Dünnfilm umzuwandeln und so die Leistung von TFTs (Dünnfilmtransistoren) zu verbessern.
Mikrofabrikation:Excimer-Laser finden auch breite Anwendung in der mikroelektronischen Verpackung, der Herstellung faseroptischer Gitter, dem Mikro-{0}Dicing und dem Mikro-{1}Bohren. Ihre „Kaltbearbeitung“-Eigenschaft vermeidet die thermischen Auswirkungen und Schäden am umliegenden Gewebe, die mit der Infrarot-Laserbearbeitung verbunden sind.
Augenchirurgie:Der 193-nm-ArF-Excimerlaser wird häufig in ophthalmologischen Laseroperationen eingesetzt, beispielsweise in der refraktiven Hornhautchirurgie. Seine Einzelphotonenenergie beträgt 6,4 eV, während die Bindungsenergie zwischen Peptidbindungen und Kohlenstoffketten im menschlichen Hornhautgewebe nur 3,4 eV beträgt.
Behandlung von Hautkrankheiten:Excimer-Laser können auch zur Behandlung von Hautkrankheiten wie Vitiligo eingesetzt werden, indem sie therapeutische Effekte erzielen, indem sie in erkrankten Zellen Apoptose auslösen und die Pigmentsynthese fördern.

Der Excimer-Laser ist eine Phototherapie-Behandlung der neuen Generation für Erkrankungen wie Psoriasis. Wie frühere Behandlungsoptionen für Psoriasis basiert der Excimer-Laser auf ultraviolettem Licht, um Psoriasis-Plaque und andere Problembereiche zu bekämpfen, die Haut zu heilen und künftige Ausbrüche zu reduzieren.
Frühere Versionen der Phototherapie beruhten jedoch auf speziellen Leuchtkästen, die UV-Licht an den gesamten Körper abgeben. Um diese Therapie anzuwenden, entkleidete sich der Patient, betrat die Box und spezielle Lichtwellenlängen wurden an den gesamten Körper gesendet.
Lichttherapie-Box-Behandlungen hatten den Nachteil, dass sie den gesamten Körper behandelten. Dies stellte für einige Patienten ein Problem dar, da gesundes Gewebe unnötigerweise UV-Licht ausgesetzt wurde, obwohl Psoriasis-Plaque nur an einer Stelle vorhanden war; B. an den Ellbogen oder auf der Kopfhaut. Darüber hinaus erforderten UV-Lichtbox-Behandlungen mehr Sitzungen.
Der Excimer-Laser stellt eine deutliche Verbesserung gegenüber den UV-Lichtbox-Behandlungen dar, da er eine präzise Behandlung von Psoriasis ermöglicht, ohne gesundes Gewebe UV-Licht auszusetzen.
Betriebssicherheit der Ausrüstung
Elektrische Sicherheit
Excimer-Laser benötigen eine Hochspannungsversorgung von mehreren Zehntausend Volt. Vor der Wartung muss die gesamte Hochspannung abgeschaltet werden, um die Gefahr eines Stromschlags zu vermeiden.
Das Gerät sollte mit einem unterbrechungsfreien Stromversorgungssystem (USV) ausgestattet sein, um Datenverlust oder Geräteschäden durch plötzliche Stromausfälle zu verhindern.
Überprüfen Sie regelmäßig den Erdungsstatus des Geräts, um einen wirksamen Schutz vor elektrostatischer Entladung zu gewährleisten.
Gasmanagement
Während Edelgase (wie Krypton und Argon) ungiftig sind, muss die Konzentration von Halogeniden (wie Fluor) in der Luft streng begrenzt sein (z. B. muss die Fluorkonzentration unter 1×10⁻⁸ liegen).
Überprüfen Sie regelmäßig das Gasversorgungssystem, um Lecks zu vermeiden, die zu Vergiftungen oder Korrosion führen könnten.
Temperaturkontrolle
Die Temperatur des Entladungskammergases beeinflusst direkt die Stabilität der Laserenergie. Beispielsweise beträgt die optimale Betriebstemperatur für einen KrF-Excimer-Laser etwa 50 Grad und für einen ArF-Laser etwa 60 Grad.
Setzen Sie ein hochpräzises Temperaturkontrollsystem (z. B. einen PID-Algorithmus) ein, um sicherzustellen, dass die Temperaturschwankungen ±1 Grad nicht überschreiten, um die Lebensdauer der Geräte zu verlängern und die Ausgangsstabilität zu verbessern.
FAQ
Wir sind als einer der führenden 126-nm-UV-Hersteller und -Lieferanten in China bekannt. Wenn Sie maßgeschneidertes 126-nm-UV im Großhandel verkaufen möchten, fordern Sie gerne eine Preisliste und ein Angebot von unserer Fabrik an. Für eine Preisberatung kontaktieren Sie uns.